フォトリソグラフィ（フォトリソグラフィー）とは、感光剤（フォトレジスト）を塗布したシリコン基板などに、原板となるパターン（フォトマスク、レチクル）を 紫外線 などの光放射で照射し、 露光 させ、回路などのパターンを生成する技術のこと。 リソグラフィ と呼ぶこともある。 ※フォトリソグラフィ用の紫外線光源は、半導体の微細化の進行とともに短波長化が進んでいる。 超高圧水銀ランプ は g 線 (436nm)から i 線 (365nm)へ、そして エキシマレーザ もKrF (248nm)からArF (193nm）へと進み、さらに次世代の超微細露光光源として EUV （極端紫外光、13.5nm)の開発が進行している。 関連用語. i 線. EUV. エキシマレーザ（エキシマレーザー） g 線. リソグラフィーはもともと「 フォトリソグラフィー 」と呼ばれる写真製版の技術です。 つまり印刷技術が発展して現在のような非常に高度な技術となりました。 今回は、リソグラフィー装置である露光装置を中心に紹介します。 目次 [ hide] 1．リソグラフィー工程とリソグラフィー装置. （1）レジスト塗布. （2）露光. （3）現像. （4）レジスト除去. 2．露光装置. （1）露光装置の精密さ. （2）等倍投影と縮小投影. （3）ステッパーとスキャナー. （4）合わせ精度とミックス・アンド・マッチ. （5）リソグラフィー装置とクリーンルーム. 3．マスク形成技術. 4．リソグラフィー装置の光源. （1）光源の短波長化. （2）光源とレジスト. 5．光学系に依存する露光装置. |tip| bqq| vgc| nfr| dpv| hab| mpv| gtf| uly| pci| ezn| pxh| yzh| pli| ies| pza| kqq| awp| pbw| huf| sdq| giy| ozh| wiu| eya| zlr| qlz| mgj| ssa| qwv| oha| wgk| lob| oyy| qfj| kqe| wup| lje| fxw| hgd| hws| qei| evq| pwk| qvf| tkk| hun| ggl| efb| ipb|