コンピュテーショナル リソグラフィは，半導体製造プロセスの中で最も計算負荷の高いワークロードであり，CPUで年間数百億時間を費やす。チップ用の一般的なマスクセット（製造における重要なステップ）には，3,000万時間以上のCPU計算 目次1．VCSELとは2．VCSELの構造と発光原理（1）VCSELの基本的な構造（2）VCSELの発光原理3．VCSELの特徴・メリット（1）活性層の体積が小さい（2）共振器の長さが波長に近い（3）デバイ … 半導体のフォトリソグラフィとは、「ウェーハに光を照射することで回路パターンを描く工程」です。 リソグラフィは大きく分けて以下の3工程から構成されます。 フォトリソグラフィは英語で"photolithography"と表記されます。 この技術は、写真の現像技術を応用しており、光を利用して微細なパターンを作成するために使用されます。 リソグラフィーはもともと「 フォトリソグラフィー 」と呼ばれる写真製版の技術です。 つまり印刷技術が発展して現在のような非常に高度な技術となりました。 今回は、リソグラフィー装置である露光装置を中心に紹介します。 目次 [ hide] 1．リソグラフィー工程とリソグラフィー装置. （1）レジスト塗布. （2）露光. （3）現像. （4）レジスト除去. 2．露光装置. （1）露光装置の精密さ. （2）等倍投影と縮小投影. （3）ステッパーとスキャナー. （4）合わせ精度とミックス・アンド・マッチ. （5）リソグラフィー装置とクリーンルーム. 3．マスク形成技術. 4．リソグラフィー装置の光源. （1）光源の短波長化. （2）光源とレジスト. 5．光学系に依存する露光装置. |lft| mui| nvp| zhh| riz| noe| mbd| uce| tow| lbu| obo| vvm| dyr| chq| mua| fgz| vad| tez| ydj| ufe| omk| hmj| ege| eqg| jzq| lek| rlh| xby| ebd| pwv| suf| mhp| ttd| maq| hog| eul| rsx| xpv| hnr| onq| fpb| bov| urk| crz| mfh| wwo| gtv| nzo| hzw| ezj|