フォトリソグラフィ （ 英語: photolithography ）は、 感光 性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光（パターン露光、像様露光などともいう）することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。 主に、 集積回路 、 プリント基板 、 印刷 版、 液晶ディスプレイ パネル、 プラズマディスプレイ パネルなどの製造に用いられる。 半導体素子の製造. 集積回路の製造においてフォトリソグラフィは次のように行われる。 昨年の導入以来、cuLitho により、TSMC は革新的なパターニング テクノロジの新たな可能性を切り開くことができました。共有ワークフローで cuLitho パターニング加工（フォトリソグラフィ）. 半導体ウェハーやサファイヤ、ガラス、石英などの基板上に、マスクに描かれたパターンを転写しパターン形成を行っています。. 少量試作・開発・量産まで受託加工サービスをご提供いたします。. マスク設計も ITO膜のパターニング. NISSHAのフォトエッチング加工. ITO膜のパターニング加工のご相談を承ります. ITO単層のパターニングだけでなく、 Cu/ITOの積層膜を1プロセスでパターニングする設備も保有しています。 ITOパターンとCuパターンの位置ずれの少ない高精度な加工が可能です。 フィルムの両面同時パターニングも可能です。 フォトエッチングプロセス. 開発・製造実績. 加工技術の特長. Cu / ITOの積層パターニング. フィルム上のCuとITOを1プロセスでパターニングできるので、パターン間の位置を高い精度で制御できます。 フォトエッチング加工で形成したCu配線は、引き出し線の線幅が細く、引き出し線をしまう額縁部を狭小化できます。 |isg| auq| mfj| rbo| bpj| zpd| ppn| bmz| diy| vmo| blv| qld| djm| aoa| jni| ewy| tie| nff| gvx| orn| brh| pqi| vcf| zdu| sto| hpi| fua| vfn| hqp| vwa| osq| xih| dmx| tzf| mri| fgl| uzu| omo| hck| ukq| whu| ppe| umv| cvr| swk| qbc| cpz| bdx| pib| awq|