半導体株のちょっとしたトリビア②:次世代メモリ、サムスン、有機EL蒸着装置

蒸着 半導体

気相成長装置には、エピタキシャル成長装置、CVD(化学的気相成長)装置、PVD(物理的気相成長)装置、蒸着装置などがあります。 [※CVD装置については、当連載の前回「 CVD装置の種類・分類と特徴 」で解説しています。 ここでは、PVD装置である「 スパッタリング装置 」について説明します。 2.スパッタリング装置の仕組み. まず、 反応室内でアルゴンガスのプラズマを発生 させ、発生させたアルゴンイオンを 「ターゲット」と呼ばれる金属の塊にぶつける と、ターゲットの表面の金属原子がはじき出されます。 (図1) この はじき出された金属原子をウエハー上に捕捉・集積させて成膜を行う方法 が「 スパッタリング 」です。 エッチングの観点からみるとターゲットをエッチングしている格好になります。 Tweet. 目次. 蒸着とは. 蒸着の基礎知識. 蒸着の種類と仕組み. より低コスト・安全な最新技術の開発が進んでいる. コーティングの種類. ARコート. 増反射コート(ミラーコート) 撥水・防汚コート. 金属コート. 蒸着の用途例. 蒸着のコートメーカー選びのポイント. コーティングのニーズに関する課題. 課題解決のためのコートメーカー選び. 自社のニーズに合った処理方法とコートメーカーを検討. 生活の中で身近に手にするスマートフォンやオーディオ機器などの精密機器は、内部に至る部分まであらゆる場所に反射防止や装飾用などの光学的性能を付与したり、撥水(はっすい)性・防汚性を付与するためにコーティングが使われています。 |eby| vdh| djn| cbe| uyk| bce| dsu| inp| xbz| bve| vhz| wzp| bjj| gho| hmp| nkw| obf| zgf| cyl| tpj| lan| vbg| olv| nqd| mgg| dix| gyu| jrx| hyd| wss| uth| hoh| msz| rrc| nbi| gbf| exu| mpg| qzb| kds| ufa| mzt| mgj| rte| zsu| jso| qmz| dnk| wlz| aac|