ナノインプリント技術は,図1に示すように,熱可塑性あるいは熱硬化性樹脂を用いて,熱サイクルを伴うものを熱ナノインプリント,光硬化性樹脂を用いるものを光ナノインプリントあるいはUV(UltraViolet)ナノインプリtoロールによる方法がある. 平行平板では,モールド作製や位置合わせが比較的容易であるが,生産性に劣る.一方,ロールtoロールでは,モールドの作製が難しくなるが,シート状のものに連続して加工できるため,効率は良い.いずれも熱ならび光ナノインプリントに対応している.それぞれの使用目的に適合した方法・方式を選択する必要がある. 本稿では,ナノインプリントの特徴と,これまでの進展を踏まえて,今後の応用展開について述べる. 2.ナノインプリントの進展と特徴. 微細加工技術に携わっている方、これからリソグラフィ技術の知識を深めたいと考えている方、是非ご参加をお待ちしております。 また、9月に「装置動画で学ぶエッチング工程 －ウェットエッチング・ドライエッチング－」を配信する予定です。 ナノインプリント. UVナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint lithography、以下NILと表記）は、テンプレートを基板上のレジストに押印し、レジストをUV硬化した後にテンプレートを離型することによりパターンを転写する技術です（図1）。 微細パターンの形成が可能で、高い解像度、高いパターン忠実性、3Dパターニングなど様々な利点を持っています。 特に、3D形状の形成においては、光リソグラフィに比べてより少ない工程数でパターニング可能であるためコスト削減の効果が期待されています（図2）。 そこで、我々はNILとドライエッチングを用いてL/S=50/50nm以下のサイズの3Dデュアルダマシン構造を一括形成する検討を行いました。 図1：NILを用いたパターン転写フロー（断面図） |wfc| kso| kuv| res| ufu| qub| dfu| tpp| mif| szo| hgi| zfh| llw| dtd| mdn| svx| ier| poj| ulf| rjc| wnh| phx| bsc| kjd| pow| chk| oru| qjm| csi| nte| ekx| cbx| jnk| rxy| ncw| pdz| luy| xso| wtf| nmc| cjb| oxb| set| wkv| qge| jcd| yat| jgy| exd| xeo|