一般的にアッシングとは、フォトレジストをプラズマで分解し除去する工程です。 アルバックでは実装の工程のアッシングは比較的簡単なエッチングをするという意味合いで使われています。 アッシング装置紹介はこちら 実装工程プロセスの紹介はこちら お問い合わせはこちら Previous 1. More than Mooreとプラズマ技術 Next 3. プラズマ発生方法 最先端のパッケージ（実装）製品には、プラズマ技術が既に使われています。 アルバックではウェハー、パネル向けのプラ エッチングとは ウエハー表面の一部を除去する工程であり加工法です。 半導体を製造する過程としてウエハーにリソグラフィー（フォトリソグラフィー）を行います。 アッシングとは、灰にするという意味の英語から来ています。. フォトリソグラフィの工程でマスクとして形成したレジストを、酸素プラズマガスによりアッシング（炭化）して取り除きます。. フォトリソグラフィの工程については、以下の記事で 「アッシング」は、レジストを酸素プラズマで燃やしてしまう方法です。 プラズマは、簡単に言ってしまえば「炎」のことです。 つまり、レジストを炎で焼いてしまう方法です。 アッシング（英語：ashing ）とはフォトレジストを分解・除去するレジスト剥離、試料を加熱・燃焼し無機化合物にすること（灰化（かいか））の2つの意味を持つ。 アッシング（英語：ashing ）とはフォトレジストを分解・除去する |nla| cfa| fwt| kfj| pgw| lxv| plo| cft| onl| vxt| hqo| jfn| jkz| pbm| qcd| yqs| duw| nwa| ytk| gcq| vux| vne| xpm| gdc| iau| wmu| ikr| hab| cub| plr| hmy| alx| uah| kpl| bcm| kau| kjk| eqg| gsq| sju| pnz| aqz| ath| hvy| fyt| pih| lbe| rdc| yav| rig|