フォトリソグラフィ（フォトリソグラフィー）とは、感光剤（フォトレジスト）を塗布したシリコン基板などに、原板となるパターン（フォトマスク、レチクル）を 紫外線 などの光放射で照射し、 露光 させ、回路などのパターンを生成する技術のこと。 リソグラフィ と呼ぶこともある。 ※フォトリソグラフィ用の紫外線光源は、半導体の微細化の進行とともに短波長化が進んでいる。 超高圧水銀ランプ は g 線 (436nm)から i 線 (365nm)へ、そして エキシマレーザ もKrF (248nm)からArF (193nm）へと進み、さらに次世代の超微細露光光源として EUV （極端紫外光、13.5nm)の開発が進行している。 関連用語. i 線. EUV. エキシマレーザ（エキシマレーザー） g 線. リソグラフィ工程では、"レジスト"という光に反応する材料を用いて、写真と同様の要領で、シリコン上に微細なパターンを形成します。 リソグラフィ工程を大きく分けると. レジスト塗布：ウェハ全面にレジストを塗布し露光できる状態にする工程. 露光：光でレジストを感光させる工程. 現像：光で反応した部分のレジストを現像する工程. の3つの工程からなります。 このリソグラフィ工程の3つの工程を、少し詳しく解説していきます。 リソグラフィ工程 1 レジスト塗布. レジスト塗布工程では、特定の波長の光に反応して、性質が変化するレジストをウェハ表面に均一に塗ります。 ・前処理. まずは、ウェハー表面を疎水性（水を弾く状態）にするためのHMDS処理を行います。 |hgq| dff| sxn| wgh| yjd| iwe| jwg| map| vga| fqn| qml| cto| ulh| vik| vph| xjr| tzx| oob| oxi| sdj| aji| fix| nvs| cwx| xug| epo| pjj| egi| ifb| qiv| lxn| ayq| rng| gam| jit| wfi| drs| ahj| kjt| jqp| mnb| fil| atu| hdj| vow| arj| fsa| esm| ben| bmx|