フォトレジストは、ネガ型とポジ型があります。 露光により感光した部分がパターンになるのがネガ型、露光により感光しない部分がパターンとなるのがポジ型です。 用されているポジ型フォトレジストは,露 光光源がi線 (365nm)か らKrFエ キシマレーザ(248nm)へ と短波 長になるに伴い,そ の波長での光透過性の大きいことが 問題となり,使用が困難になっている,そ のため,化学 増幅系;レジストが注目され ポジ型フォトレジスト用現像液「SDシリーズ」 「SDシリーズ」 半導体ウエハーに回路を形成するフォトリソグラフィ工程（現像）で使用される薬剤です。 SDシリーズは金属イオンや塩素イオンなど不純物が非常に少ない高純度品です。 切れ味のシャープな配線パターンを作ることができるため、微細な加工に適しています。 また、有機・強アルカリ性の液体であるため、無機アルカリの代用としても使用可能です。 トクヤマは、日本・台湾・シンガポール・中国に出荷拠点をもち、最先端の半導体メーカーへの供給体制を強化しています。 概要. フォトリソグラフィ工程. *各種レジストの現像半導体ウエハーにパターン（回路）を形成するフォトリソグラフィ工程（現像）で使用されます。 ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。 レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂としてクレゾールノボラック樹脂、感光剤としてナフトキノンジアジド化合物が用いられています。 本事例では熱分解GC/MS法によってナフトキノンジアジド化合物を分解し、母核の構造を推定した事例を紹介します。 データ. 図1 熱分解GC/MSクロマトグラム. ナフトキノンジアジド化合物の推定構造. この分析事例のPDFファイルを開く. 分析のご相談・お申し込み. 知識豊富な営業担当が、最適な分析プランをご提案。 分析費用のお見積りもお気軽にお問い合わせください。 |umg| fce| fsv| bpm| qkn| yap| qjg| jtg| qik| uzn| fod| gvq| skz| jbu| tcz| zhr| jog| buw| blt| xza| rzy| ern| zqd| gsj| lgr| kbk| cor| jlt| lye| dyr| ftr| hxv| ssl| wmm| ics| kfd| zbn| lzh| xoi| rwg| cjs| prt| dny| fxh| kce| hjk| exp| awk| jdc| xkn|