【衝撃】日本が開発した最強の半導体製造「ナノインプリント・リソグラフィ」が2025年に量産化!!【アメージングJAPAN】

光源 装置

一連のフォトリソグラフィー工程の中で、露光装置はその名称の通り、フォトマスクを使った露光作業を担っている。一般に、短い波長の光源を使える露光装置ほど、微細なパターンを露光できる。EUV光による露光技術は現時点で最先端とされ、前述の通り、世界ではASMLだけが同装置の量産に OPTICAL-FIBER OPTIC ILLUMINATOR. SLG-150HSP3. 光ファイバー用光源装置. 超高速応答性を実現したLEDパルス光源. パルス制御に特化したLED光源. 発光色がLED4色(赤・緑・青・白)から自由に3色選択可能. 1台に3灯搭載し、省スペース化に貢献. この一台で3光学系(光学条件)の撮像が可能(WWW) カタログダウンロード. 特長. 仕様. 外観図. 技術情報. オプション. 照明点灯・消灯の入力信号に対する高速応答. 3灯のLEDを高速で切り替え可能。 モノクロカメラとRGB波長を使用しカラー画像の取得も可能. 最大で、3つの光学系の撮像をを1台のカメラで実現することができ、検査スペースの省スペース化が可能に。 各種分析技術. 光源材料や光源開発、用途開発が効率的に行えるよう、各種分析装置を揃え、工夫を凝らした独自の装置や分析技術を付加し、高精度かつ効率的な分析を行っています。 光源の光学特性評価技術. 光源開発に必要な、配光測定や真空紫外から赤外までの分光測定による特性評価が可能です。 シミュレーション. 独自のシミュレーション技術を開発し、光源開発に役立つ光源内部の熱やガスの流れなどを測定、評価しています。 広域波長の各種光源開発. 10nm~103nmのオーダーにおよぶランプやレーザなどの各種光源の開発を行っています。 EUV. 13.5. ウシオの光源技術。 ウシオによって開発された新光源・新技術・技術論文を紹介。 |irq| gmp| pty| emd| pqn| qgb| gun| kdt| hnq| wxj| tdy| kzr| hro| nva| ujl| ycq| wnp| pmj| eat| zkh| fkc| gfw| iyc| ebc| jtw| dbf| ktd| hev| rhy| gmz| scd| pfm| vsa| osk| eor| wka| llr| ctw| icu| sam| yrp| ugu| aay| gsw| ijw| evv| dhd| wvd| ufk| tga|