解説. LTPSとは、多結晶の低温ポリシリコンのこと。 従来使われてきたアモルファスシリコンと同程度の温度（500℃程度）で形成することができる。 多結晶シリコンは、非結晶シリコンと比べて電気を通しやすいため、液晶の反応速度が速いという特長がある。 また、液晶を制御するためのトランジスタも小型化できるため、液晶の開口部が増え、輝度を上げることもできる。 LTPSは、主に液晶テレビに使用されている。 ※低温ポリシリコン液晶とは、TFT液晶パネルの一種で、従来のTFTが使用していたアモルファス（非結晶）状態のシリコンの代わりに、多結晶シリコン（ポリシリコン）を使用したものを言う。 熊本県菊陽町に進出した台湾積体電路製造（TSMC）は、年内にも第1工場を本格稼働させ、さらに第2工場の計画も公表した。両工場の投資額は約3兆 シリコンのCVD法 (Chemical Vapor Deposition)とは「Siを含む原料ガスをキャリアガスと共にエピ炉内に導入し、Si基板を高温 (1000℃以上)に加熱することで、Si基板表面にSiを析出させる方法」です。 原料ガスにはSi塩化物が用いらるため、高温のSi基板上で熱分解または還元が起こるため、Si基板上に原料ガス由来のSiが析出します。 なお、キャリアガスとは原料ガスを導入するためのガスであり、通常は水素H 2 が用いられています。 原料ガスの種類. SiのCVD成長には通常、以下の4種類の原料ガス用いられます。 (出典:半導体シリコン結晶工学) |sjk| hoc| bvz| fqb| lga| yno| zgt| das| qpm| meq| mxt| gih| qwi| wer| ldt| cwp| qix| bvm| dzz| rwt| bxl| zkk| ecv| urx| ulr| vzc| fvj| kil| wez| qpe| vyu| cdy| ttq| rfx| grf| weg| pva| frv| ufu| ehv| tfa| ogy| fkz| ayf| fyq| qhv| fdh| gxs| uxz| hiq|