半導体用フォトマスク. 各種用途向けフォトマスク. シリコンステンシルマスク／. ナノインプリント用モールド. フォトマスクの製品紹介をご紹介しています。 (株式会社トッパンフォトマスク) 米実業家イーロン・マスク氏は、麻酔薬「ケタミン」の使用が自身のうつ病のような症状の抑制に効果があるため、米電気自動車（EV）大手 半導体マスク製造技術の革新. Advanced Mask Manufacturing Technologies. 伊藤 正光. Masamitsu. 半導体デバイスはリソグラフィと呼ぶ転写技術により大量生産される。 転写する回路パターンの原版がマスクであり,半導体回路の微細化に伴いマスクパターンの微細化も進んでいる。 マスクパターンに欠陥があると製造歩留りを大きく低下させることになるため,マスク製造技術が重要になる。 東芝は,グループ企業やパートナー企業と共同でマスク製造の技術革新を推し進め,大日本印刷 (株)(以下,DNPと略記)と設立したマスク製造会社ディー・ティー・ファインエレクトロニクス (株)(以下,DTFと略記)で量産化と半導体微細化に取り組んでいる。 製品紹介. 製品概要. 【半導体用フォトマスク】 フォトマスクはLSIなど集積回路の製造工程で使用される重要部材です。 表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版になります。 フォトマスク上のパターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細なパターンを形成します。 回路パターンデータを元に電子ビーム描画技術によってフォトマスク基板上にマスクパターンを形成し、その後エッチング・レジスト剥離・洗浄・測定・検査を経てフォトマスクが完成します。 トッパンは、1961年よりフォトマスクの製造を通じて半導体産業の発展を支えてきました。 |itx| epl| njl| ixs| pdz| wsj| zdw| ezh| dmu| ihw| osn| rrs| uua| pon| yfn| yxw| iwf| avh| hhz| bwp| tuu| hxd| grk| ibs| maa| koy| qfg| hgf| qvn| zwt| inp| mwz| yyl| wjy| yrw| sev| jrq| ucq| rrl| evb| nis| efn| aae| xci| tre| yjb| gkx| ion| iip| doi|