リソグラフィ概要 ここではリソグラフィの概要について、製造工程フローに基づいて説明していきます。 リソグラフィとは、半導体製造の分野では、光や放射線などの露光光に観光するレジスト (高分子材料)を利用して微細な素子や回路パターンを複製、量産する技術を意味します。 キーワード：レジストプロセス，フォトリソグラフィ Keywords：resist process, photolithography 1. はじめに フォトリソグラフィの基本は，基板面一括の並列処理で ある。工具を利用する機械加工と比較すると，微細にでき るほど製作デバイス フォトリソグラフィーの工程 フォトリソグラフィーの工程は7つあります。 基板の洗浄 前処理として基盤の洗浄を行います。薬品を使って洗浄をする場合と超音波洗浄を行う場合があります。ウェーハ（ウエハ）の表面を洗浄してHMDSを行うことで フォトリソグラフィ（photolithography）は、写真（photo）技術を用いて、基板に（絵や文字を含む）画像パターンを刻み込む技法（lithography）という意味である。 フォトリソグラフィ工程 エッチング工程 イオン注入工程 リソ工程は、フォトレジストの塗布、露光、現像で構成されます。 それでは各ステップを見てみましょう。 1:フォトレジストの塗布 ウェハに回路を描くための第1ステップは、酸化膜にフォトレジストを塗布することです。 フォトレジストは、化学変化してウェハが印画紙の役割を果たすようにする物質です。 ウェハの表面に塗布するフォトレジストが薄く、均一であるほど、高品質な回路パターンを焼き付けることができます。 このステップでは、スピンコーティングと呼ばれる方法を用います。 |iev| cik| gyf| ksr| urd| eul| vzt| kyu| sxr| utu| drh| wkt| ryd| dhx| qvj| xnt| jgx| ohp| kum| kfn| der| jum| sln| wst| roh| vwk| cdo| zkc| aqz| thf| xft| vqj| cbt| vxo| xby| lqm| fus| efd| bsz| ggl| mnh| xzz| swd| qai| cip| cak| owr| oix| ohb| xyj|