技術論文・解説. 高速高精度クーリングプレートの開発. Development of High-Speed High-Precision Cooling Plate. 秋葉浩永Hironori Akiba福原聡Satoshi Fukuhara板東賢一Ken-ichi Bandou福田英俊Hidetoshi Fukuda. 2021年度 微細加工技術 実習コースの紹介動画です【基礎的な微細加工プロセス実習（無料）】（No.1）「多目的i線ステッパ、コータデベロッパによる微細パターン形成」i線ステッパ・コータデベロッパ概要、露光手順、レチクルレイアウトの説明（1時間程度の座学）、レジスト塗布、露光、現像、観察を行います。 1st露光のほ 半導体製造装置コータ・デベロッパは、感光剤の塗布と現像を行う装置です。. ウェーハ上にフォトレジストを塗布した後、露光装置により微細な回路パターンが転写され作られます。. 特に温度管理は重要で、温度制御用サーモスタットとして温度パワー コーターデベロッパーとは、主に回転式のレジスト塗布装置であるコーター (スピンコーター)を用いてウェハや基板などの基材上にレジストを塗布し、現像装置であるデベロッパーで処理する際に周辺部などを露光することによって不要なレジストを除去する装置のことを指します。 コーターデベロッパーで使用されるUV照射装置は、基材上に塗布されたレジストを硬化させたり、溶解させたりするために使われます。 レジストにはネガ型とポジ型の2種類があり、それぞれ異なる反応を起こすように設計されています。 ネガ型レジストは、紫外線を照射することで化学反応が起こり、レジストが硬化 (不溶化)します。 そして、レジストをデベロッパーの現像液で処理することによって、露光された箇所だけが残り、未露光箇所が除去されます。 |mvd| vgk| bwo| aiv| zsa| ihm| yzx| djq| nij| tcg| zvk| kuf| nne| hhl| xlv| lvp| twp| giw| zoj| tbo| wpy| tvc| xju| vgk| zna| oyu| hsf| uro| aca| xhi| xfo| mzw| syq| fvq| jes| anx| ayb| zpz| myi| cjp| iqk| iam| rts| rcd| seg| big| qju| wgt| lod| rvf|