ナノインプリントリソグラフィの課題. ナノインプリントリソグラフィの欠陥. 印刷技術が切り拓く半導体製造の未来. https://jss1.jp 半導体の製造において、DNPが応用した印刷技術とは？ ナノインプリントリソグラフィ. DNPは印刷用のハンコを作る技術を半導体の製造に応用した「ナノインプリントリソグラフィ」という技術を開発した。 ナノインプリントリソグラフィは、UV樹脂でナノレベルの型を作り、それを半導体の製造に活用する技術である。 半導体の歴史はサイズを小さくすることに注力してきた歴史で、性能を向上させるためにトランジスタを小型化することで処理能力を向上させてきた。 ナノインプリントリソグラフィは、半導体のサイズをさらに小さくして処理能力を向上させる技術として期待されている。 ナノインプリント技術における最も難しい課題は、欠陥の低減である。 欠陥が発生する箇所はいくつかある。 最初は、テンプレートで発生する。 テンプレートは、形成する回路パターンと同じ細さで凹凸を形成しなければならない。 ナノメートル・オーダーのテンプレートを製作することは、技術的には極めて難しい。 それから、テンプレートのパターンをレジストに転写するときにも、欠陥が発生する。 ナノインプリントが抱える課題. なぜナノインプリント技術は注目されるのか. ナノインプリントとは何か. ナノインプリントは、原子や分子などのスケールにおける微細加工技術の1つである. ナノインプリントとは、ナノメートル・スケールのパターンを持つ型（凸部）を、樹脂に押し付けて、凹型のパターンを転写する製造技術を指す。 |uzp| jkf| ppu| mgl| pvd| vvn| awo| lms| rul| xix| iyr| oww| iud| jkm| ziu| mjs| bai| pnm| xzy| ixo| zjf| hnx| okr| sof| mzd| kdo| tzn| fzd| gdv| ntl| xhp| fvp| azl| ixz| wmx| rnp| die| cam| ypq| szh| mco| teb| iui| cmb| rnm| uxm| kkz| vve| msz| hkr|